材料涂敷设备
著录项目变更
摘要
一种往配置在一真空室中的基片上涂敷材料的设备。装有电子发射器的独立发生器室经由作业室与真空室相连，从而产生横截面形状可控制的大面积等离子体，并由磁铁引向靶体系统。施加可调节的负电压就可使正离子加速撞到靶体上。
基本信息
专利标题 ：
材料涂敷设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1033297A
申请号 ：
CN88106899.3
公开（公告）日 ：
1989-06-07
申请日 ：
1988-09-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
罗尔夫·阿当汉斯·艾歇尔特汉斯·贝茨安敦·迪特里希冈德·迪特马克劳斯·哈蒂格弗里德里希·哈斯赖纳·路德维希艾尔弗雷德·特伦马克斯·梅尔格雷戈·肯贝尔罗伯特·W·康丹尼尔·M·戈贝尔
申请人 ：
莱博德股份公司
申请人地址 ：
联邦德国哈瑙
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
吴增勇
优先权 ：
CN88106899.3
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
1993-01-20 ：
著录项目变更
变更事项 : 申请人
变更前 : 莱博德股份公司
变更后 : 艾尔弗雷德·特伦
变更事项 : 地址
变更前 : 联邦德国哈瑙
变更后 : 联邦德国斯米滕西伦堡
变更前 : 莱博德股份公司
变更后 : 艾尔弗雷德·特伦
变更事项 : 地址
变更前 : 联邦德国哈瑙
变更后 : 联邦德国斯米滕西伦堡
1990-01-17 ：
实质审查请求
1989-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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