磁力驱动旋喷电解抛光槽
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
一种主要用于金相试样电解抛光的磁力驱动旋喷电解抛光槽。利用电解液在圆筒中高速回转时边周上升的原理，由导喷盘与喷嘴直接将电解液均匀地喷射到试样被抛光表面。通电后即可快速获得平滑光泽的抛光效果。试样托盘上抛光窗孔的设计不仅可以方便地改换抛光截面的大小和形状，而且较好的解决了表面分析试样的边缘容易塌陷的问题。这种电解抛光槽结构简单，容易清洗和运转稳定，还可进行浸渍式抛光和作电解浸蚀槽使用。
基本信息
专利标题 ：
磁力驱动旋喷电解抛光槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN88219085.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1988-05-21
授权号 ：
CN2031404U
授权日 ：
1989-01-25
发明人 ：
张伯承
申请人 ：
江苏工学院
申请人地址 ：
江苏省镇江市东郊
代理机构 ：
江苏工学院专利事务所
代理人 ：
王鑫德
优先权 ：
CN88219085.7
主分类号 ：
C25F7/00
IPC分类号 ：
C25F7/00 G01N1/32
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F7/00
从物体上电解除去材料用电解槽的构件，或其组合件；维护或操作
法律状态
1992-09-16 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1989-11-01 ：
授权
1989-01-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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