用于溶剂可显影的光刻涂层的含水的显影剂组成物
视为撤回的专利申请
摘要
本发明提供含水的显影剂组成，可显影溶剂可显影的光敏材料，并由表面活性剂、萜烯和水以一定比例构成；包括约0.5-10％重量表面活性剂和约0.2-10％重量萜烯，余量为水。更好的是包括约3-6％重量表面活性剂和约4-8％重量萜烯，余量为水；表面活性剂较好地为非离子表面活性剂或其混合物，且萜烯为α-萜二烯。本发明还提供浓缩液配方，含水显影剂组成物可通过用水稀释来制备，通常水用量为其5-10倍。
基本信息
专利标题 ：
用于溶剂可显影的光刻涂层的含水的显影剂组成物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1039904A
申请号 ：
CN89101298.2
公开（公告）日 ：
1990-02-21
申请日 ：
1989-03-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
保罗·L·K·洪肯尼思·K·S·采恩
申请人 ：
M&T化学有限公司
申请人地址 ：
美国新泽西州07095
代理机构 ：
上海专利事务所
代理人 ：
徐志奇
优先权 ：
CN89101298.2
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
1992-05-27 ：
视为撤回的专利申请
1990-02-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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