磁头抛光方法及其抛光机和该方法生产的磁头
专利权的视为放弃
摘要
磁头(40、40a、40b)是用抛光带导筒(11a、11b)导向并用抛光带成型导块(20a、20b)的内圈表面压在抛光带导筒(11a、11b)上的抛光带(1)抛光的，抛光带成型导块设置在抛光带(1)外表面附近，以获得具有小的磁带接触面形状误差的磁头。该磁头抛光方法是借助用抛光带成型导块在抛光带的磁带移动侧上将抛光带(1)压紧在抛光带导筒(11a、11b)的抛光机实现的。
基本信息
专利标题 ：
磁头抛光方法及其抛光机和该方法生产的磁头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1042618A
申请号 ：
CN89108777.X
公开（公告）日 ：
1990-05-30
申请日 ：
1989-11-04
授权号 ：
CN1018251B
授权日 ：
1992-09-16
发明人 ：
於久常雄落合雄二真岛正
申请人 ：
株式会社日立制作所
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
陶增炜
优先权 ：
CN89108777.X
主分类号 ：
B24B35/00
IPC分类号 ：
B24B35/00 G11B5/127
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B35/00
为超精加工工件表面而设计的机床或装置，即利用磨块作高频往复运动
法律状态
1993-12-22 ：
专利权的视为放弃
1992-09-16 ：
审定
1990-05-30 ：
实质审查请求
1990-05-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
