光学记录媒体及其制作方法
专利申请的视为撤回
摘要
一种光学记录媒体，它包含基片、沉积在基片上的记录层以及沉积在记录层的光反射侧和/或光透射侧的保护膜，保护膜至少要含有Si、Cr和N。一种制备具有记录层以及基片上有保护膜的光学记录媒体的方法，该方法包括下列步骤：制作由Si以及从金属元素、半金属元素和半导体元素中选出的至少一种电阻率小于Si的元素组成的合金靶所构成的阴极，在至少含有惰性气体和氮气的气氛中进行DC磁控溅射，沉积出保护膜。
基本信息
专利标题 ：
光学记录媒体及其制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1046226A
申请号 ：
CN90102003.6
公开（公告）日 ：
1990-10-17
申请日 ：
1990-04-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
山浩二桥本英彦
申请人 ：
三井石油化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
王以平
优先权 ：
CN90102003.6
主分类号 ：
G03G5/00
IPC分类号 ：
G03G5/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G5/00
采用辐照用于原稿记录的记录构件；记录构件的制造；所用材料的选择
法律状态
1994-03-02 ：
专利申请的视为撤回
1992-07-22 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1990-10-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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