氧化-还原体系中碳-卤键还原的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种卤代烷烃化合物在氧化一还原体系中碳－卤键还原的方法，它能方便地由氟卤（氯、溴、碘）烃制得含氢氟卤（氯、溴）烃或氢氟烃。所用还原剂是金属，可被氧化金属离子、无机盐、有机盐、胺或草酸等，氧化剂是可被还原金属离子或过氧化合物等。原料易得，反应条件温和，后处理简单。反应物转化率１００％，产物纯度高达９５．０—９９．９％，产率为６３—９５％。
基本信息
专利标题 ：
氧化-还原体系中碳-卤键还原的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1056864A
申请号 ：
CN90102865.7
公开（公告）日 ：
1991-12-11
申请日 ：
1990-05-26
授权号 ：
CN1039005C
授权日 ：
1998-07-08
发明人 ：
胡昌明卿明虎卿凤翎张宏根
申请人 ：
中国科学院上海有机化学研究所
申请人地址 ：
200032上海市零陵路345号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN90102865.7
主分类号 ：
C07C19/08
IPC分类号 ：
C07C19/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C19/00
含有卤原子的无环饱和化合物
C07C19/08
含有氟
法律状态
2003-07-23 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-07-08 ：
授权
1992-09-09 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-12-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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