金属表面选择性涂布法、由金属表面制作电路图法及所用的光敏...
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
用一种乳剂在金属底板上自动沉淀一层树脂和具有光敏化功能的材料涂层，从而选择性地保护该底板免受如腐蚀处理这样的腐蚀性环境的侵蚀。该乳剂中包括有酸和氧化剂，这样就可以使底板在该乳剂中浸渍时能自动沉积上树脂和具有光敏化功能的材料，所得到的涂层能在光化辐射下通过一成象图形而暴光，并在碱性流液中显影后显出所设计的图象。这里使用该乳剂和工艺制作电路板，然后将显影过程中裸露的金属表面腐蚀掉，表面只留下涂层的部位。这所得到的涂层表面就是印制电路的线路图。
基本信息
专利标题 ：
金属表面选择性涂布法、由金属表面制作电路图法及所用的光敏乳剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1054836A
申请号 ：
CN90110428.0
公开（公告）日 ：
1991-09-25
申请日 ：
1990-12-15
授权号 ：
CN1030739C
授权日 ：
1996-01-17
发明人 ：
艾伦·R·布朗丹尼尔·J·哈特艾伦·F·贝克内尔贝特西·埃尔祖方
申请人 ：
格雷斯公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
魏金玺
优先权 ：
CN90110428.0
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
1998-02-04 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1996-01-17 ：
授权
1992-12-23 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-09-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
