真空烧结装置

专利权的终止未缴年费专利权终止

摘要

本实用新型公开了一种真空烧结装置，该装置可将高温烧结过程与快速冷却过程有机地结合在一起，具体系在炉体的一侧设置有快速冷却喷射罩，在炉体及快速冷却喷射罩的底部设置有轨道及辊道，辊道底盘与一转动升降机构相联接，冷却时，炉体及快速冷却喷射罩相互位移，辊道底盘可由升降机构控制支持马弗罐体，在快速冷却喷射罩上沿径向及纵向均匀地设置有喷嘴，可使马弗罐体均匀地冷却。

基本信息

专利标题：

真空烧结装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN90210409.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

1990-04-20

授权号：

CN2080156U

授权日：

1991-07-03

发明人：

张世忠

申请人：

张世忠

申请人地址：

110006辽宁省沈阳市和平区望湖路19-4-111

代理机构：

沈阳市专利事务所

代理人：

扬士铨

优先权：

CN90210409.8

主分类号：

F27B5/05

IPC分类号：

F27B5/05