化学循环清除糖厂蒸发罐积垢的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及到钙垢的清除，尤其是制糖工业中糖垢的清除方法及清除剂。本发明所述方法的步骤为：一、预处理阶段：用预清除剂在温度为80-95℃、流速为0-0.5m/s的条件下处理2-6小时；二、排液，水冲洗，使冲洗水的pH值降至8-9；三、处理阶段：用清除剂在温度为35-45℃、流速为0.5-0.8m/s的条件下循环清洗4-8小时，四、排液，水冲洗，使冲洗水的pH值为5-7。
基本信息
专利标题 ：
化学循环清除糖厂蒸发罐积垢的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1069296A
申请号 ：
CN91105475.8
公开（公告）日 ：
1993-02-24
申请日 ：
1991-08-12
授权号 ：
CN1033984C
授权日 ：
1997-02-05
发明人 ：
刘沣
申请人 ：
刘沣
申请人地址 ：
650027云南省昆明市云津市场86号
代理机构 ：
云南省专利事务所
代理人 ：
张怡
优先权 ：
CN91105475.8
主分类号 ：
C23G1/18
IPC分类号 ：
C23G1/18 C23F14/02 C02F5/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23G
电解法除外的化学法金属材料清洗及除油
C23G1/00
用溶液或熔融盐清洗或酸洗金属材料
C23G1/14
用碱溶液
C23G1/16
用缓蚀剂
C23G1/18
有机缓蚀剂
法律状态
1998-09-30 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1997-02-05 ：
授权
1994-06-01 ：
实质审查请求的生效
1993-02-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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