紫外防伪原子印章制造工艺及设备
专利申请的视为撤回
摘要
紫外防伪原子印章制造工艺涉及一种制造紫外防伪原子印章的工艺方法，包括照排、照象、凸版制作、凹版制作、橡胶压制、渗油和装配等工序，其中渗油工序是在真空干燥条件下将紫外防伪原子印油渗入橡胶凸版中。采用本工艺制造的原子印章除具有一般原子印章印次高，使用方便等优点外，在适当波长紫外光照射下，其印迹可发出鲜艳的特征荧光，便于鉴别印迹真伪，因而具有防止伪造的功能。本发明特别适用于制造紫外防伪原子印章。
基本信息
专利标题 ：
紫外防伪原子印章制造工艺及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1059494A
申请号 ：
CN91105851.6
公开（公告）日 ：
1992-03-18
申请日 ：
1991-08-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李明智赵景员王义民李万庆季茂海
申请人 ：
天津市首饰厂;南开技术开发咨询公司
申请人地址 ：
300160天津市河东区红星路118号
代理机构 ：
天津市专利事务所专利代理服务部
代理人 ：
潘冠雄
优先权 ：
CN91105851.6
主分类号 ：
B41K1/00
IPC分类号 ：
B41K1/00 G09F3/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B41
印刷；排版机；打字机；模印机
B41K
模印机；模印或印号码设备或装置
B41K1/00
没有用于支撑被盖印的物品或使被盖印的物品定位的装置的便携式手动装置，即手模印；其输墨装置或其他附件
法律状态
1995-10-25 ：
专利申请的视为撤回
1994-04-06 ：
实质审查请求的生效
1992-03-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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