透明性优良的红外线吸收膜
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明公开了一种包括合成树脂和氧化硅的红外线吸收膜，其中氧化硅的用量，以合成树脂重量为基准，约为２—２５％，其中氧化硅是由水下研磨制得，平均粒度不大于４μｍ，基本上没有粒度超过２０μｍ的颗粒，并且具有不大于２０m2/g的比表面积。该膜还可包括在其至少一个表面上形成的透明树脂层。
基本信息
专利标题 ：
透明性优良的红外线吸收膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1060660A
申请号 ：
CN91109590.X
公开（公告）日 ：
1992-04-29
申请日 ：
1991-10-03
授权号 ：
CN1048024C
授权日 ：
2000-01-05
发明人 ：
儿谷晃造子川英雄
申请人 ：
住友化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府大阪市
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
杨九昌
优先权 ：
CN91109590.X
主分类号 ：
C08J5/18
IPC分类号 ：
C08J5/18 C08K3/36 //C08L23:04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/18
薄膜或片材的制造
法律状态
2002-11-27 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-06-12 ：
其他有关事项
2000-01-05 ：
授权
1994-01-12 ：
实质审查请求的生效
1992-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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