反射防止膜及其显示装置
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
作为下层形成溶液以Ti(OC3H7)4为主成分并采用含有作为颜料的赫斯特帕尔玛品红E(ホスタパ-ムヒンクE)的下层形成溶液来形成含有色素的下层膜，在该下层膜上采用以Si(OC2H5)4为主成分的溶液来形成上层膜，以形成2层反射防止膜。该反射防止膜的最小反射率与最小透过率大略一致。与已有的反射防止特性相比，反射防止区域扩大，特别是能抑制在偏离了所要防止反射的特定波长的区域的晃眼。
基本信息
专利标题 ：
反射防止膜及其显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1070046A
申请号 ：
CN92104868.8
公开（公告）日 ：
1993-03-17
申请日 ：
1992-06-19
授权号 ：
CN1026729C
授权日 ：
1994-11-23
发明人 ：
清水和彦伊藤武夫松田秀三
申请人 ：
东芝株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
上海专利事务所
代理人 ：
颜承根
优先权 ：
CN92104868.8
主分类号 ：
G02B1/10
IPC分类号 ：
G02B1/10 H01J29/88
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
2009-08-19 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2002-06-12 ：
其他有关事项
1994-11-23 ：
授权
1993-03-17 ：
公开
1993-02-24 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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