用于精密光学系统或光学部件的无放射性特别是无FCKW的清...
专利申请的驳回
摘要
一种用于精密光学系统的无放射性清洗方法，包括以下步骤：(a)预处理过程，以建立了槽的环流及精过滤；(b)借助于紫外线辐射或高加速度电子或辉光放电，在一定压力的O2或O3气氛下，将有机杂质和表面活性剂残余物分解为CO2；(c)检查玻璃光学部件的界面与有机基反应的情况、玻璃表面上分解反应或表面几何形状改变的情况；(d)主处理过程包括：除去玻璃表面的水及涂上一层粘合剂或增透膜层作进一步处理。
基本信息
专利标题 ：
用于精密光学系统或光学部件的无放射性特别是无FCKW的清洗方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1071860A
申请号 ：
CN92105917.5
公开（公告）日 ：
1993-05-12
申请日 ：
1992-06-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
E·普罗伊斯纳H·格林瓦尔德F·谢雷尔
申请人 ：
莱卡显微及系统有限公司
申请人地址 ：
联邦德国韦茨拉尔
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
肖掬昌
优先权 ：
CN92105917.5
主分类号 ：
B08B11/00
IPC分类号 ：
B08B11/00 B08B3/12
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B11/00
专门适用于清洁柔韧的或精致的物品的方法或装置
法律状态
1998-07-15 ：
专利申请的驳回
1994-04-27 ：
实质审查请求的生效
1993-05-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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