浮熔装置
专利权的终止
摘要
一组扇形段12沿一感应线圈1的周边放置在感应线圈1内形成一圆柱形坩埚３。坩埚３的底部中心有一圆柱形孔４。所说扇形段由一种经电绝缘处理的导体材料如铜或类似材料构成。坩埚３允许磁力线通过孔４和扇形段１２之间的各个狭缝进入其中，作用于待加热材料。每个狭缝１５由毗邻扇形段形成。在扇形段底部的每个狭缝宽于在其圆柱部分的狭缝，或在扇形段底部的狭缝数目多于在其圆柱形部分的狭缝数目，由此可增加上浮力Ｆ和稳定性Ｓ。
基本信息
专利标题 ：
浮熔装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1078548A
申请号 ：
CN92115324.4
公开（公告）日 ：
1993-11-17
申请日 ：
1992-12-19
授权号 ：
CN1050895C
授权日 ：
2000-03-29
发明人 ：
福泽章樱谷和之渡边敏昭山崎素央森田公武达男藤田满
申请人 ：
科学技术厅金属材料技术研究所;中部电力株式会社;富士电机株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
张志醒
优先权 ：
CN92115324.4
主分类号 ：
F27B14/00
IPC分类号 ：
F27B14/00
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B14/00
坩埚炉或罐式炉；浴炉
法律状态
2013-02-13 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101395517630
IPC(主分类) : F27B 14/00
专利号 : ZL921153244
申请日 : 19921219
授权公告日 : 20000329
终止日期 : 20111219
号牌文件序号 : 101395517630
IPC(主分类) : F27B 14/00
专利号 : ZL921153244
申请日 : 19921219
授权公告日 : 20000329
终止日期 : 20111219
2002-06-12 ：
其他有关事项
2000-03-29 ：
授权
1994-09-14 ：
实质审查请求的生效
1993-11-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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