窄多分散性和单分散性阴离子低聚物及其应用,制剂和制备方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要

本发明的窄的多分散或单分散低聚物为具有3—50个重复单元的聚脲、聚碳酸酯、聚酯或聚酰胺。这些低聚物为水溶性的,最好具有刚性骨架,具有通过羰基连接基团偶联的重复单元,具有阴离子基团,主要显示线性几何结构,以致在水介质中在阴离子基团之间存在规则间隔,且该低聚物为药学上可接受的。窄的多分散或单分散低聚物可用于治疗和/或诊断AIDS和/或ARC或HSV。

基本信息
专利标题 :
窄多分散性和单分散性阴离子低聚物及其应用,制剂和制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1074437A
申请号 :
CN93100245.1
公开(公告)日 :
1993-07-21
申请日 :
1993-01-09
授权号 :
CN1049670C
授权日 :
2000-02-23
发明人 :
A·D·卡丁W·A·福德思M·J·木林斯T·A·钱伯林M·J·法齐奥
申请人 :
陶氏化学公司;默里尔多药物公司
申请人地址 :
美国密执安
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
唐伟杰
优先权 :
CN93100245.1
主分类号 :
C08G63/66
IPC分类号 :
C08G63/66  C08G64/08  C08G69/44  C08G71/02  C07C309/32  A61K31/255  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G63/00
由在高分子主链上形成羧酸酯键的反应制得的高分子化合物
C08G63/66
含有醚基形式氧的聚酯
法律状态
2005-03-09 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-04-24 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更事项 : 专利权人
变更前 : 陶氏化学公司;默里尔多药物公司
变更后 : 陶氏化学公司;默里尔药物公司
2000-02-23 :
授权
1995-04-26 :
实质审查请求的生效
1993-07-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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