二次电池的阴极及其制备法
专利权的终止
摘要

本发明涉及一种用于可充电电池的阴极及其制法,该薄膜阴极由铝箔、腐蚀铝箔、镍箔、泡沫镍箔、铜箔、腐蚀铜箔、不锈钢箔其中的一种金属箔作为基板及印制其上的阴极膜所构成,其制备工艺是在上述其中的一种基板上用丝网印刷法印制阴极膜或用刮浆法制成阴极膜,进行压制,再进行热处理,其优点是可制成各种复杂形状的不同厚度的薄膜阴极,在制膜过程中不需要保护气氛,大大减少了设备,减化了工艺,提高了阴极膜单位面积的电容量及膜层的附着力。

基本信息
专利标题 :
二次电池的阴极及其制备法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1091860A
申请号 :
CN93102133.2
公开(公告)日 :
1994-09-07
申请日 :
1993-03-03
授权号 :
CN1034704C
授权日 :
1997-04-23
发明人 :
刘人敏罗江山宋伟明吴国良王洪基
申请人 :
北京有色金属研究总院
申请人地址 :
100088北京市新街口外大街2号
代理机构 :
北京市第三专利代理事务所
代理人 :
母宗绪
优先权 :
CN93102133.2
主分类号 :
H01M4/64
IPC分类号 :
H01M4/64  H01M4/04  H01M4/36  H01M10/38  
法律状态
2013-04-03 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101430317718
IPC(主分类) : H01M 4/64
专利号 : ZL931021332
申请日 : 19930303
授权公告日 : 19970423
期满终止日期 : 20130303
1997-04-23 :
授权
1995-05-31 :
实质审查请求的生效
1994-09-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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