通过辐照除去表面沾染物
专利权的视为放弃
摘要
本发明提供了一种通过高能辐照除去一个基体的一个平面或不规则形状表面上的表面沾染物的装置。本发明能够除去表面沾染物而不改变下面的基体的分子晶体结构。高能辐照源包括一个脉冲或连续波激光器或高能灯。
基本信息
专利标题 ：
通过辐照除去表面沾染物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1078415A
申请号 ：
CN93104564.9
公开（公告）日 ：
1993-11-17
申请日 ：
1993-03-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·C·恩格斯堡J·A·迪海斯
申请人 ：
大锅有限合伙人公司
申请人地址 ：
美国马利兰州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
程天正
优先权 ：
CN93104564.9
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2001-04-25 ：
专利权的视为放弃
1995-07-19 ：
实质审查请求的生效
1993-11-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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