腙衍生物的制法和应用
专利申请的视为撤回
摘要

公开了通式[Ⅰ]的腙衍生物。其中R1是卤素等;R2是氢或C1—C5烷基等; R3是氢或C1—C5烷基等;R4是氢或C1—C5烷基等;R5是C1—C5烷基等;R6是氢或C1—C6烷基等;A是(CH2)t、O、S(O)n等;a是从1到4的整数;n是从0到2的整数;t是从1到3的整数;还公开了制造该衍生物的方法,含有这种腙衍生物作为活性组分的杀虫剂和/或杀螨剂,以及它们的中间化合物。

基本信息
专利标题 :
腙衍生物的制法和应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1078460A
申请号 :
CN93104638.6
公开(公告)日 :
1993-11-17
申请日 :
1993-04-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
泷敏晃岸田博斋藤茂谏山真二
申请人 :
住龙化学工业株式会社
申请人地址 :
日本大阪府
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
谭明胜
优先权 :
CN93104638.6
主分类号 :
C07C251/76
IPC分类号 :
C07C251/76  A01N33/26  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C251/00
氮原子以双键与碳架相连接的含氮化合物
C07C251/72
C07C251/74
腙基的双键碳原子连接氢原子或非环碳原子
C07C251/76
连接饱和碳架的碳原子
法律状态
1998-02-11 :
专利申请的视为撤回
1995-07-19 :
实质审查请求的生效
1993-11-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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