一种铝硅共渗方法及其设备
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明提供了一种铝硅共渗的方法和设备，所涉及铝硅共渗剂的组成为铝粉、青砖粉、卤化物催渗剂和压铸铝灰，其配比为(重量百分比)为：1～5铝粉(0.442～0.066mm)、0.1～6青砖粉(0.442-0.066mm)、0.5～6卤化物催化剂，98.4～83底料。所涉及的铝硅共渗箱的箱体上部设置有隔板，用以在隔板上放置适量的焦炭，并在隔板上开设用以排气的小孔，本发明渗剂配方合理且价廉易得，便于控制渗层厚度和铝硅含量，工件变形量小，设备简单，操作方便，铝硅共渗成本低。
基本信息
专利标题 ：
一种铝硅共渗方法及其设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1094757A
申请号 ：
CN93105585.7
公开（公告）日 ：
1994-11-09
申请日 ：
1993-05-07
授权号 ：
CN1032827C
授权日 ：
1996-09-18
发明人 ：
钱士利
申请人 ：
钱士利
申请人地址 ：
471003河南省洛阳市涧西区丽春路洛阳汇通石油化工设备防腐研究所
代理机构 ：
洛阳市专利事务所
代理人 ：
陈元刚
优先权 ：
CN93105585.7
主分类号 ：
C23C10/52
IPC分类号 ：
C23C10/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10/00
金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10/28
使用固体，例如粉末、膏剂的
C23C10/34
埋置于粉末混合物中的，例如包埋渗
C23C10/52
一步法渗多种元素
法律状态
1999-06-30 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1996-09-18 ：
授权
1994-11-09 ：
公开
1994-08-24 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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