噻吩并苯并二氮草类化合物及其制法和用途
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
下式的药用化合物$其中R１是氢或卤，R２是Ｃ1—10烷基、C2—10链烯基、C2—10炔基、由１至３个C１—４烷基任意取代的C３—６环烷基、C３—６环烷基－C１—４烷基，其中环烷基由１至３个C１—４烷基任意取代，或任意取代的苯基－C１—４烷基；或它们的盐。
基本信息
专利标题 ：
噻吩并苯并二氮草类化合物及其制法和用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1085903A
申请号 ：
CN93108212.9
公开（公告）日 ：
1994-04-27
申请日 ：
1993-05-28
授权号 ：
CN1043994C
授权日 ：
1999-07-07
发明人 ：
Ｊ·费尔赫斯特Ｄ·Ｅ·塔帕Ｔ·Ｍ·霍顿
申请人 ：
利利工业公司
申请人地址 ：
英国英格兰
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
汪洋
优先权 ：
CN93108212.9
主分类号 ：
C07D495/04
IPC分类号 ：
C07D495/04 A61K31/495 //
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D495/00
杂环化合物，在稠环系中至少有1个杂环具有硫原子作为仅有的杂环原子
C07D495/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D495/04
邻位稠合系
法律状态
2003-07-23 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1999-07-07 ：
授权
1995-08-09 ：
实质审查请求的生效
1994-04-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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