用含有结合到固相亲水基质上的吸电子基的含硫复合体从溶液中...
专利权的终止
摘要
本发明涉及从可以含有更大浓度其它不需要离子(包括H+)的多离子源溶液中除去和浓缩所需离子,如Pd(Ⅱ)、Ru(Ⅲ)、Pd(Ⅳ)、Au(Ⅲ)、Au(Ⅰ)、Ag(Ⅰ)和Hg(Ⅱ)的方法,包括使用离子源溶液和通过有机间隔基硅原子基团与固相无机载体共价结合的含硫和吸电子基配体接触。化合物的含硫和吸电子基配体部分对所需离子有亲和力而形成配位,因而能从溶液中除去所需离子。用更小体积的,比化合物的含硫和吸电子基配体部分对所需离子具有更强亲和力的回收液与所说化合物接触,使所需离子从化合物中除去。本发明方法适用于从酸性废液、金属精炼液和其它工业或环境液中除去所需或不需要的离子。本发明还描述了通过间隔基基团与亲水无机固相载体材料共价结合的含硫和吸电子基配体。
基本信息
专利标题 :
用含有结合到固相亲水基质上的吸电子基的含硫复合体从溶液中除去离子的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1090794A
申请号 :
CN93108721.X
公开(公告)日 :
1994-08-17
申请日 :
1993-06-08
授权号 :
CN1050362C
授权日 :
2000-03-15
发明人 :
R·L·布鲁宁B·J·塔贝特R·M·艾泽特J·S·布拉德肖
申请人 :
布莱阿姆青年大学
申请人地址 :
美国犹他州
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
王杰
优先权 :
CN93108721.X
主分类号 :
C07F7/18
IPC分类号 :
C07F7/18
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环,碳环或杂环化合物
C07F7/00
含周期表第4或14族元素的化合物
C07F7/02
硅化合物
C07F7/08
具有1个或更多的C-Si键的化合物
C07F7/18
具有1个或更多的C-Si键以及1个或更多的C-O-Si键的化合物
法律状态
2011-08-17 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101097307737
IPC(主分类) : C07F 7/18
专利号 : ZL93108721X
申请日 : 19930608
授权公告日 : 20000315
终止日期 : 20100608
号牌文件序号 : 101097307737
IPC(主分类) : C07F 7/18
专利号 : ZL93108721X
申请日 : 19930608
授权公告日 : 20000315
终止日期 : 20100608
2000-03-15 :
授权
1995-10-11 :
实质审查请求的生效
1994-08-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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