室温可硫化组合物生产方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种具有高挤出速率和低流挂的室温可硫化组合物的生产方法，其中二有机聚硅氧烷和封端交联酮肟基甲硅烷的基本混合物先反应而后加入挤压机的第一注入口，一种无机填料从挤压机的第二注入口加进所述基本混合物中，一种Ｍ－封端硅氧烷流体分成两份，第一份所述Ｍ－封端流体，从挤压机中部的第三个注入口加入含有填料的基本混合物中，而催化剂、粘合促进剂和第二份Ｍ－封端流体从挤压机的第四注入口加入，含有这些成分的所述混合物被挤向挤压机出口。
基本信息
专利标题 ：
室温可硫化组合物生产方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1089901A
申请号 ：
CN93114717.4
公开（公告）日 ：
1994-07-27
申请日 ：
1993-11-25
授权号 ：
CN1054866C
授权日 ：
2000-07-26
发明人 ：
Ｊ·Ｊ·德齐阿克Ｍ·Ｒ·平克Ｊ·Ｐ·马图齐
申请人 ：
通用电气公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
吴大建
优先权 ：
CN93114717.4
主分类号 ：
C08K5/54
IPC分类号 ：
C08K5/54 C08L83/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08K
使用无机物或非高分子有机物作为配料
C08K5/00
使用有机配料
C08K5/54
含硅化合物
法律状态
2002-01-16 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2000-07-26 ：
授权
1996-06-05 ：
实质审查请求的生效
1994-07-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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