防复制膜
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种防复制膜或层包括一层有许多完全或部分不透明区的透明材料，这些区相隔配置而其平面围绕对该膜或层表面相同预定位置排列，因此从预定视角观测该防复制膜表面时，该膜基本为透明的。所述区至少包含部分经辐照会转换成不透明或反射的光敏材料，还可在透明塑料中设置其内放置该光敏材料的凹部或槽。
基本信息
专利标题 ：
防复制膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1087730A
申请号 ：
CN93119717.1
公开（公告）日 ：
1994-06-08
申请日 ：
1993-10-29
授权号 ：
CN1044349C
授权日 ：
1999-07-28
发明人 ：
Ｈ·施坦宁格Ｐ·海尔曼Ｐ·休金
申请人 ：
埃姆特克磁化股份有限公司
申请人地址 ：
联邦德国曼德维希港
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
吴增勇
优先权 ：
CN93119717.1
主分类号 ：
B42D15/00
IPC分类号 ：
B42D15/00 B44F1/12
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B42
装订；图册；文件夹；特种印刷品
B42D
书；书籍封皮；活页；具有标识或安全功能特征的印刷品；没有另作规定的特殊格式或风格的印刷品；其所使用的设备且没有另作规定;动带写入或读取装置
B42D15/00
其他类目不包含的特殊开本或类型的印刷品
法律状态
2004-12-29 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1999-07-28 ：
授权
1998-03-18 ：
著录项目变更
变更事项 : 申请人
变更前 : 巴斯夫磁学有限公司
变更后 : 埃姆特克磁化股份有限公司
变更前 : 巴斯夫磁学有限公司
变更后 : 埃姆特克磁化股份有限公司
1997-03-19 ：
著录项目变更
变更事项 : 申请人
变更前 : 巴斯大磁学有限公司
变更后 : 巴斯夫磁学有限公司
变更前 : 巴斯大磁学有限公司
变更后 : 巴斯夫磁学有限公司
1996-02-28 ：
实质审查请求的生效
1994-06-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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