印相显影装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种印相显影装置，结构上具有能进行由施加于以往控制条上的规定条件构成的基准曝光的构件、作显影处理后密度测定的构件以及根据测定结果提示处理液状态的构件。备有基准曝光用负片，还具有控制部，进行通常印相时和基准曝光时的光源转换，测定基准曝光后处理所得的感光材料密度，并根据测定结果运算、判断和显示处理液状态。如此获得能简便进行液体管理的构件，实现印相显影处理的简化和质量提高。
基本信息
专利标题 ：
印相显影装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1094825A
申请号 ：
CN94100036.2
公开（公告）日 ：
1994-11-09
申请日 ：
1994-01-07
授权号 ：
CN1045224C
授权日 ：
1999-09-22
发明人 ：
西田茂树谷端透
申请人 ：
诺日士钢机株式会社
申请人地址 ：
日本和歌山县
代理机构 ：
上海专利商标事务所
代理人 ：
汪瑜
优先权 ：
CN94100036.2
主分类号 ：
G03D3/00
IPC分类号 ：
G03D3/00 G03B27/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03D
加工曝光后的照相材料的设备；其附件
G03D3/00
包括浸渍作用的液体加工设备；包括浸渍作用的水洗设备
法律状态
2002-02-27 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1999-09-22 ：
授权
1996-04-10 ：
实质审查请求的生效
1994-11-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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