抗潜像衰变的远紫外敏感抗光蚀剂
专利申请的视为撤回
摘要
一种正像工作远紫外敏感抗光蚀剂在烘焙前曝光后的持延过程中具有改进的临界尺寸稳定性。该抗光蚀剂包含不溶于水但通常溶于碱性水溶液介质的酸稳定性聚合物，某种光酸发生剂例如3，5-二硝基-2，6-二羟甲基对甲酚的三-(2，1，4-重氮萘醌磺酸)酯以及叔丁醇和多元酚的混合碳酸酯，它为能抑制通常可溶性聚合物在所述碱性介质中的溶解的酸不稳定化合物。
基本信息
专利标题 ：
抗潜像衰变的远紫外敏感抗光蚀剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1096595A
申请号 ：
CN94102363.X
公开（公告）日 ：
1994-12-21
申请日 ：
1994-03-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·M·拉扎勒斯T·A·克斯
申请人 ：
莫顿国际股份有限公司
申请人地址 ：
美国伊利诺斯州
代理机构 ：
上海专利商标事务所
代理人 ：
林蕴和
优先权 ：
CN94102363.X
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2000-05-31 ：
专利申请的视为撤回
1994-12-21 ：
公开
1994-12-14 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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