新的杂环衍生物及其制备方法和用途,和含该衍生物的药物组合...
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
可作为药物使用的下式的新型杂环衍生物及其可药用盐：$其中，Ｒ1代表可带有适当取代基的芳基或可带有适当取代基的杂环基；$Ｒ２代表可带有适当取代基的芳基或可带有适当取代基的杂环基；$Ｒ３代表氢原子或酰基；$Ｒ４代表氢原子、低级烷基、环（低级）烷基、环（低级）烷基－（低级）烷基、羧基（低级）烷基、被保护的羧基（低级）烷基、可带有适当取代基的芳基（低级）烷基、芳基、（低级）链烯基、桥连三环烷基、可带有适当取代基的杂环基，酰基或下式基团；和$Ｒ５代表氢或低级烷基。
基本信息
专利标题 ：
新的杂环衍生物及其制备方法和用途,和含该衍生物的药物组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1120840A
申请号 ：
CN94191768.1
公开（公告）日 ：
1996-04-17
申请日 ：
1994-02-09
授权号 ：
CN1041929C
授权日 ：
1999-02-03
发明人 ：
川合吉夫山崎齐田中洋和奥照夫
申请人 ：
藤泽药品工业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
罗宏
优先权 ：
CN94191768.1
主分类号 ：
C07D487/04
IPC分类号 ：
C07D487/04 A61K31/53 //
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D487/00
在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子的杂环化合物，不包含在C07D451/00至C07D477/00组中
C07D487/02
在稠合系中含有两个杂环
C07D487/04
邻位稠合系
法律状态
2006-04-19 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1999-02-03 ：
授权
1996-07-24 ：
实质审查请求的生效
1996-04-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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