处理暗盒及装配处理暗盒的方法
专利权的终止
摘要

本发明的特点在于,贮存与显影操作一起使用的显影剂的第一框架、用于支承对影象载体上形成的潜象显影的显影装置的第二框架和用来支承影象载体的第三框架都由相同的材料制成。

基本信息
专利标题 :
处理暗盒及装配处理暗盒的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1155106A
申请号 :
CN96111204.2
公开(公告)日 :
1997-07-23
申请日 :
1993-06-15
授权号 :
CN1105340C
授权日 :
2003-04-09
发明人 :
宍户一男佐佐木新一池本功矢代昌彦唐镰俊之沼上敦
申请人 :
佳能株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
王以平
优先权 :
CN96111204.2
主分类号 :
G03G21/18
IPC分类号 :
G03G21/18  G03G15/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03G
电记录术;电照相;磁记录
G03G21/00
不包括在G03G13/00至G03G19/00各组中的装置,例如,清洁、消除残余电荷
G03G21/16
使设备维护简易的机械装置,例如,组合式装置
G03G21/18
应用处理暗盒
法律状态
2013-07-31 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101502157140
IPC(主分类) : G03G 21/18
专利号 : ZL961112042
申请日 : 19930615
授权公告日 : 20030409
终止日期 : 20120615
2003-04-09 :
授权
1997-07-23 :
公开
1997-06-25 :
实质审查请求的生效
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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