光刻装置、照明系统以及碎屑捕集系统

专利权的终止

摘要

一种用于捕集通过光刻装置中的辐射源产生辐射时释放出的至少一部分碎屑颗粒的碎屑捕集系统，包括第一组通道和第二组通道。第一组中每一通道使来自辐射源的辐射能够经由所述通道传播，并且具有用于俘获碎屑颗粒的内壁。第二组通道相对于辐射传播方向处于第一组通道下游。第二组中每一通道也使来自辐射源的辐射能够经由所述通道传播，且具有用于俘获碎屑颗粒的内壁。气体供应装置和气体排出装置设置成在第一组通道与第二组通道之间提供气流，该气流具有基本上横过来自辐射源的辐射传播方向的净流动方向。

基本信息

专利标题：

光刻装置、照明系统以及碎屑捕集系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1797205A

申请号：

CN200510003545.9

公开（公告）日：

2006-07-05

申请日：

2005-12-23

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

L·P·巴克D·J·W·克鲁德M·M·J·W·范赫彭

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

赵辛

优先权：

CN200510003545.9

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027