铁电氧化物介质反射膜片及制备方法
专利权的终止
摘要

本发明公开了一种铁电氧化物介质反射膜片及制备方法,该反射膜片依次由衬底,镍酸镧缓冲层,铁电氧化物介质反射膜层组成。其特征在于:衬底为玻璃或石英。该方法包括:I.玻璃或石英衬底的特殊处理——清洗、预热处理和在其中一个表面上形成一层导电氧化物镍酸镧缓冲层;II.镀膜溶液的配制,反射膜层的制备。重要的是在镀膜溶液中引入高分子聚合物,利用相分离技术,在一次制膜过程中自发形成双层结构。各种表征手段的测试分析结果说明在玻璃或石英衬底上生长的反射膜层具有结晶度高、良好的铁电特性和一维光子晶体性能。

基本信息
专利标题 :
铁电氧化物介质反射膜片及制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1763618A
申请号 :
CN200510030796.6
公开(公告)日 :
2006-04-26
申请日 :
2005-10-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
胡古今戴宁
申请人 :
中国科学院上海技术物理研究所
申请人地址 :
200083上海市玉田路500号
代理机构 :
上海智信专利代理有限公司
代理人 :
郭英
优先权 :
CN200510030796.6
主分类号 :
G02F1/19
IPC分类号 :
G02F1/19  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
法律状态
2014-12-17 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101591754021
IPC(主分类) : G02F 1/19
专利号 : ZL2005100307966
申请日 : 20051027
授权公告日 : 20080604
终止日期 : 20131027
2008-06-04 :
授权
2006-06-14 :
实质审查的生效
2006-04-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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