基于线性模型的离轴信号处理方法
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本发明公开了一种基于线性模型的离轴信号处理方法，其特征在于：信号的拟合处理过程分为RTR(realtimereduce/实时处理)和FPS(fast parameter solve/快速参数解析)两个执行步骤。其有益效果是，在光刻领域首度采用了实时信号处理方法，并将拟合的线性相关度应用到该特殊领域，能够实时精确地得到信号的暗电流，振幅和相位，确保对准位置的计算精度，在很大程度上提高了信号处理结果的可靠性，大大提高了光刻机的生产效率。
基本信息
专利标题 ：
基于线性模型的离轴信号处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1794090A
申请号 ：
CN200510030807.0
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2005-10-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
宋海军
申请人 ：
上海微电子装备有限公司
申请人地址 ：
201203上海市张江高科技园区张东路1525号
代理机构 ：
上海智信专利代理有限公司
代理人 ：
王洁
优先权 ：
CN200510030807.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2018-04-24 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G03F 7/20
变更事项 : 专利权人
变更前 : 上海微电子装备有限公司
变更后 : 上海微电子装备（集团）股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
变更后 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : 上海微高精密机械工程有限公司
变更后 : 上海微高精密机械工程有限公司
变更事项 : 专利权人
变更前 : 上海微电子装备有限公司
变更后 : 上海微电子装备（集团）股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
变更后 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : 上海微高精密机械工程有限公司
变更后 : 上海微高精密机械工程有限公司
2009-08-12 ：
授权
2007-08-29 ：
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 上海微电子装备有限公司
变更后权利人 : 上海微电子装备有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201203上海市张江高科技园区张东路1525号
变更后权利人 : 201203上海市张江高科技园区张东路1525号
变更事项 : 共同申请人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 上海微高精密机械工程有限公司
登记生效日 : 20070727
变更前权利人 : 上海微电子装备有限公司
变更后权利人 : 上海微电子装备有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201203上海市张江高科技园区张东路1525号
变更后权利人 : 201203上海市张江高科技园区张东路1525号
变更事项 : 共同申请人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 上海微高精密机械工程有限公司
登记生效日 : 20070727
2006-08-23 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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