噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法
授权
摘要
本发明提供了一种噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法，包括如下步骤：光学异构体在10－50％的碱水溶液中、相转移催化剂作用下于1－11atm压力条件下、80－200℃碱解得噻吩并四氢吡啶乙酸盐消旋体。本发明通过消旋体拆分，非目标手性化合物或者中间体的消旋和转化利用，解决了非目标手性“废弃物”的非环保排(存)放问题，且操作方便，工艺简单，可用于工业及商业化生产并具有生产成本和环保优势。
基本信息
专利标题 ：
噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1951941A
申请号 ：
CN200510061231.4
公开（公告）日 ：
2007-04-25
申请日 ：
2005-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王立新唐毅陈一田芳
申请人 ：
浙江华海药业股份有限公司;中国科学院成都有机化学有限公司
申请人地址 ：
317024浙江省临海市汛桥镇利庄
代理机构 ：
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 ：
王兵
优先权 ：
CN200510061231.4
主分类号 ：
C07D495/04
IPC分类号 ：
C07D495/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D495/00
杂环化合物，在稠环系中至少有1个杂环具有硫原子作为仅有的杂环原子
C07D495/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D495/04
邻位稠合系
法律状态
2009-06-24 ：
授权
2007-08-08 ：
实质审查的生效
2007-04-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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