苯基烷酸衍生物,其制备方法及其光学异构体分离方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要

下式$及下式$[在上述二式中,n表示1或2的整数,X表示卤原子、烷基或硝基,R表示氢原子或烷基,Z表示氢原子或乙酰基]$所表示的新苯基烷酸衍生物、该衍生物的制造方法、衍生物光学异构体的分离方法、以及含有该衍生物的抗炎症剂、镇痛剂及外用制剂。

基本信息
专利标题 :
苯基烷酸衍生物,其制备方法及其光学异构体分离方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1089935A
申请号 :
CN93100167.6
公开(公告)日 :
1994-07-27
申请日 :
1993-01-06
授权号 :
CN1046935C
授权日 :
1999-12-01
发明人 :
齐田胜井上寿孝别府孝一八谷照美篠原郁夫谷口恭章出口芳树滨口芳浩
申请人 :
久光制药株式会社
申请人地址 :
日本佐贺
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
吴大建
优先权 :
CN93100167.6
主分类号 :
C07C59/88
IPC分类号 :
C07C59/88  A61K31/19  C07C59/90  C07C69/73  C07C69/738  C07C205/56  C07C59/56  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C59/00
羧基连接在非环碳原子上的化合物,含羟基、氧-金属基、醛基、酮基、醚基、基、基或基中任何基团的化合物
C07C59/40
不饱和化合物
C07C59/76
含酮基
C07C59/88
含卤素
法律状态
2002-02-27 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
1999-12-01 :
授权
1994-07-27 :
公开
1993-09-01 :
实质审查请求的生效
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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