制备光学波导的方法

专利权的终止

摘要

本发明提供用于制备光学波导的方法，其包括：在底包层上布置至少一个用于形成光程偏转面的元件；在底包层上形成感光树脂层，从而至少部分地覆盖用于形成光程偏转面的元件；使感光树脂层曝光，然后显影，由此形成至少一层芯层；以及在底包层上形成外包层，从而覆盖所述至少一层芯层。

基本信息

专利标题：

制备光学波导的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101034188A

申请号：

CN200610058999.0

公开（公告）日：

2007-09-12

申请日：

2006-03-09

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

内藤龙介薄井英之望月周

申请人：

日东电工株式会社

申请人地址：

日本大阪府

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

封新琴

优先权：

CN200610058999.0

主分类号：

G02B6/13

IPC分类号：

G02B6/13 G02B6/12

IPC结构图谱

G部——物理

G02

光学

G02B

光学元件、系统或仪器附注

G02B6/00

光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件

G02B6/10

光波导式的

G02B6/12

集成光路类型

G02B6/13

以制作方法为特征的集成光路

法律状态

2018-03-27 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 6/13
申请日 : 20060309
授权公告日 : 20090325
终止日期 : 20170309

2009-03-25 ：

授权

2007-12-26 ：

实质审查的生效

2007-09-12 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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2、

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