共价层层自组装在平面基底上构建聚合物薄膜的方法
专利权的终止
摘要

本发明公开了共价层层自组装在平面基底上构建聚合物薄膜的方法。该方法以表面氨基化的石英或硅片为基材,与侧基含有环氧基团的聚合物反应,通过共价键在基材表面固定一层纳米超薄膜;然后再与侧基含有氨基的聚合物反应,通过共价键在基材表面固定另外一层纳米超薄膜。重复在这两种聚合物溶液中的反应,则可在基材表面获得具有多层结构的聚合物超薄膜。其中,每一层的厚度可以在亚纳米的量级上进行调控。本发明具有工艺简单、膜厚可调控、易于功能化,膜耐酸碱、耐有机溶剂、稳定性好等特点,可望在电子、医药、化工等领域获得应用。

基本信息
专利标题 :
共价层层自组装在平面基底上构建聚合物薄膜的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1772797A
申请号 :
CN200510061357.1
公开(公告)日 :
2006-05-17
申请日 :
2005-11-01
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
高长有封志强王志鹏沈家骢
申请人 :
浙江大学
申请人地址 :
310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
韩介梅
优先权 :
CN200510061357.1
主分类号 :
C08J5/24
IPC分类号 :
C08J5/24  B32B38/08  B32B27/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08J
加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/24
用预聚物浸渍材料,该预聚物能在被浸渍的材料中就地聚合,如预浸渍片的制造
法律状态
2012-01-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101165545566
IPC(主分类) : C08J 5/24
专利号 : ZL2005100613571
申请日 : 20051101
授权公告日 : 20070815
终止日期 : 20101101
2007-08-15 :
授权
2006-07-12 :
实质审查的生效
2006-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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