基底单面分子自组装超薄膜制备装置

专利权的终止(未缴年费专利权终止)

摘要

本实用新型公开了一种基底单面分子自组装超薄膜制备装置，属超薄膜制备技术领域。它由圆形封盖、聚四氟密封垫、圆形载玻片和螺纹底座组成，使用时，将待修饰的基底置于粘合在螺纹底座上端的圆形载玻片正中位置，再将聚四氟密封垫贴合于基底表面上，然后将带孔圆形封盖拧紧，通过圆形封盖的中心孔往聚四氟密封垫内加入一定量的反应溶液，薄膜封口，防止溶液挥发。待反应完成后，取出基底，得到仅在基底一面吸附的分子自组装超薄膜。该装置具有成本低廉、结构简单、操作方便等特点，可满足不同温度条件下在基底单面自组装成膜的需求，实用性强，适用面广。

基本信息

专利标题：

基底单面分子自组装超薄膜制备装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720088095.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-11-09

授权号：

CN201096722Y

授权日：

2008-08-06

发明人：

曾昭睿雷云戴明

申请人：

武汉大学

申请人地址：

430072湖北省武汉市武昌珞珈山

代理机构：

武汉华旭知识产权事务所

代理人：

张火春

优先权：

CN200720088095.2

主分类号：

G01N21/55

IPC分类号：

G01N21/55