形成光敏性薄膜并在基底上成象的方法
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
一种在基底上形成含有聚硅烷组成的薄膜的方法。该膜通过直接蒸汽积附于基底之上而形成，这样，避免了借助传统的旋涂技术制备与应用聚硅烷时常见的繁锁步骤。该膜可用于石印法从而在基底上成象。
基本信息
专利标题 ：
形成光敏性薄膜并在基底上成象的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1044995A
申请号 ：
CN90100094.9
公开（公告）日 ：
1990-08-29
申请日 ：
1990-01-09
授权号 ：
CN1029043C
授权日 ：
1995-06-21
发明人 ：
大卫·马克多布津斯基马克·切尔斯哈克斯替文约翰霍姆斯大卫·瓦卡拉夫·霍尔克
申请人 ：
国际商用机械公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
王杰
优先权 ：
CN90100094.9
主分类号 ：
G03F7/075
IPC分类号 ：
G03F7/075
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/075
含硅的化合物
法律状态
2010-03-10 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2002-04-24 ：
其他有关事项
1995-06-21 ：
授权
1992-04-01 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1990-08-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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