石墨烯薄膜生长基底及其制备方法和应用
公开
摘要
本发明涉及一种石墨烯薄膜生长基底及其制备方法和应用。该石墨烯薄膜生长基底的制备方法包括以下步骤:提供铜箔基底,所述铜箔基底具有第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面;对第一表面进行贴保护膜处理,对第二表面进行氧化处理,制备中间体I;去除所述保护膜,露出所述第一表面。该方法操作简单,能降低基底中的碳杂质含量,显著提高石墨烯的单层率,且是可以大批量并以卷对卷的形式进行的,能够显著提升基底的铜箔基底的生产效率,能够用于批量化制备铜箔基底,并与大批量石墨烯薄膜的制备方法结合,提高石墨烯薄膜的生产效率。
基本信息
专利标题 :
石墨烯薄膜生长基底及其制备方法和应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114604860A
申请号 :
CN202210252457.6
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2022-03-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张宝勋李炯利王旭东王刚罗圭纳
申请人 :
北京石墨烯技术研究院有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区丰智东路3号院1号楼一层108号
代理机构 :
北京华进京联知识产权代理有限公司
代理人 :
哈达
优先权 :
CN202210252457.6
主分类号 :
C01B32/186
IPC分类号 :
C01B32/186
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B32/00
碳;其化合物
C01B32/15
纳米级碳材料
C01B32/182
石墨烯
C01B32/184
制备
C01B32/186
化学气相沉积
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载