一种激光在铜金属基底镀镍表面原位生长石墨烯薄膜的方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种激光在铜金属基底镀镍表面原位生长石墨烯薄膜的方法。通过在铜金属基底表面电化学镀一层金属镍形成铜镍合金涂层,在铜镍合金涂层上预涂不同固体碳源,然后采用激光辐照在铜镍合金涂层表面实现原位生长石墨烯薄膜。本发明激光原位生长使得石墨烯薄膜与铜金属基底间结合紧密,并且所生长的石墨烯薄膜具有优异的机械性能、耐电弧烧蚀能力及高导电性,可以对铜金属表面提供持久的抗电弧烧蚀保护,从而赋予铜金属优异的抗氧化性能和抗熔焊特性,弥补了铜金属材料因易氧化而产生熔焊导致铜基触头材料失效的问题,提升了铜金属材料的电工性能,进而延长了铜基材料所制备的动、静触头工件设备等的使用寿命和安全性。

基本信息
专利标题 :
一种激光在铜金属基底镀镍表面原位生长石墨烯薄膜的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114411116A
申请号 :
CN202210080945.3
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2022-01-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
叶晓慧郑希强豪齐明陈萌瑧
申请人 :
陕西科技大学
申请人地址 :
陕西省西安市未央区大学园
代理机构 :
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 :
张宇鸽
优先权 :
CN202210080945.3
主分类号 :
C23C16/26
IPC分类号 :
C23C16/26  C23C16/48  C25D3/12  C23C28/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/26
申请日 : 20220124
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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