一种在异型金属基底上生长石墨烯的方法
授权
摘要

一种在异型金属基底上生长石墨烯的方法,它涉及化学领域,本发明的目的是为了解决异形结构的金属基底上生长石墨烯存在厚度和均匀性存在明显差异的问题,本发明方案:对异型金属基底预处理;通入氩气,抽真空;加热异型金属基底软化后通入过氧化氢气体和氩气后再通入碳源,进行生长。本发明在异形金属基底直接生长石墨烯材料,可使该金属基底性能得到优化,避免石墨烯转移过程中的结构破损和技术成本,在基于石墨烯等二维材料强化微通道热沉、电子器件散热器性能方面有广泛应用。本发明应用于石墨烯领域。

基本信息
专利标题 :
一种在异型金属基底上生长石墨烯的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112921296A
申请号 :
CN202110089848.6
公开(公告)日 :
2021-06-08
申请日 :
2021-01-22
授权号 :
CN112921296B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
张兴丽王晓杰陈浩
申请人 :
东北林业大学
申请人地址 :
黑龙江省哈尔滨市香坊区和兴路26号
代理机构 :
哈尔滨市松花江专利商标事务所
代理人 :
李红媛
优先权 :
CN202110089848.6
主分类号 :
C23C16/26
IPC分类号 :
C23C16/26  C01B32/186  C23C16/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2022-05-24 :
授权
2021-06-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/26
申请日 : 20210122
2021-06-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332