金属-电介质-金属超表面SERS基底及其加工方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种金属‑电介质‑金属超表面SERS基底及其加工方法。本发明SERS基底包括第一SiO2基层，在第一SiO2基层表面设置有贵金属层，在贵金属层表面设置有第二SiO2基层，在第二SiO2基层靠近贵金属层一侧的表面上设有凹槽，在凹槽的底面设置有若干贵金属线。本发明SERS基底加工方法是先分别制得带有贵金属层的第一SiO2基层以及具有凹槽且在凹槽底部周期分布有贵金属线的第二SiO2基层，然后将两者组合便可得到最终的金属‑电介质‑金属超表面SERS基底。本发明金属‑电介质‑金属超表面SERS基底的使用，使得在SERS检测中无需待测分子精确吸附在基底表面的热点区域，避免了待测分子对基底表面的“污染”，实现了可连续SERS检测。
基本信息
专利标题 ：
金属-电介质-金属超表面SERS基底及其加工方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114325899A
申请号 ：
CN202210059758.7
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2022-01-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈志斌秦梦泽陈赵懿薛明晰王正军
申请人 ：
中国人民解放军32181部队
申请人地址 ：
河北省石家庄市北新街169号
代理机构 ：
石家庄国域专利商标事务所有限公司
代理人 ：
苏艳肃
优先权 ：
CN202210059758.7
主分类号 ：
G02B5/00
IPC分类号 ：
G02B5/00 G01N21/65
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/00
申请日 : 20220119
申请日 : 20220119
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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