聚合物表面的亚微米/微米微透镜阵列的制备方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种聚合物表面的微米/亚微米微透镜阵列的制备方法,属于纳米/微米微结构材料及其制备技术。本发明制备方法采用自组装技术结合压模法,即首先利用胶体晶体模板结合热处理技术制备微米/亚微米印模;经过热压脱模制备微米/亚微米微透镜阵列。本发明具有低成本、无需复杂设备与技术、可大批量快速生产、微透镜阵列面积大有序度高、透镜大小深度可调、透镜表面光洁度高、聚焦性能好等优点。
基本信息
专利标题 :
聚合物表面的亚微米/微米微透镜阵列的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1772463A
申请号 :
CN200510094916.9
公开(公告)日 :
2006-05-17
申请日 :
2005-10-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王振林祝名伟闵乃本
申请人 :
南京大学
申请人地址 :
210093江苏省南京市汉口路22号
代理机构 :
南京苏高专利事务所
代理人 :
柏尚春
优先权 :
CN200510094916.9
主分类号 :
B29D11/00
IPC分类号 :
B29D11/00 B29C71/02 B29K69/00 B29K77/00 B29K59/00 B29K61/00 B29K33/04 B29K25/00
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B29
塑料的加工;一般处于塑性状态物质的加工
B29D
用塑料或用塑性状态的物质生产特殊制品
B29D11/00
生产光学元件,如透镜或棱镜
法律状态
2011-01-05 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101029297454
IPC(主分类) : B29D 11/00
专利号 : ZL2005100949169
申请日 : 20051020
授权公告日 : 20090603
终止日期 : 20091120
号牌文件序号 : 101029297454
IPC(主分类) : B29D 11/00
专利号 : ZL2005100949169
申请日 : 20051020
授权公告日 : 20090603
终止日期 : 20091120
2009-06-03 :
授权
2006-07-12 :
实质审查的生效
2006-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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