一种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备
实质审查的生效
摘要
本发明涉及微纳器件制备技术领域,特别涉及一种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备。所述方法包括:获取柔性衬底;对所述柔性衬底进行预处理;在预处理后的所述柔性衬底上设置微透镜打印材料;将所述微透镜材料按照预设微透镜结构在所述柔性衬底上进行增材打印,得到柔性微透镜阵列。该微透镜阵列的制备方法,使用增材制造的方法实现了微透镜阵列在柔性基底上的大面阵制造。所得到的微透镜阵列具有低像差、高透光、结构稳定性好的特点。此外,对柔性衬底进行预处理,使柔性衬底具备良好的定型能力与贴敷性,利于实现柱面弯曲或球面弯曲,方便微透镜阵列的广角成像。
基本信息
专利标题 :
一种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114325894A
申请号 :
CN202111590749.2
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陶虎维帅秦楠
申请人 :
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请人地址 :
上海市长宁区长宁路865号
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
苗芬芬
优先权 :
CN202111590749.2
主分类号 :
G02B3/00
IPC分类号 :
G02B3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 3/00
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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