一种消色差光变图像的制作方法
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本发明公开了一种消色差光变图像的制作方法,构建定向散斑生成器,以不同取向的狭缝光阑作为目标物光场,采用迭代傅里叶变换算法计算得到的具有定向衍射特性的二元位相结构,作为光变图像的微结构;根据所需生成的光变图像,用上述定向散斑生成器进行数字化表达,获得光变图像的散斑位相结构;通过空间光调制器,用激光成像系统进行激光直写,获得所需的消色差光变图像。本发明不需要利用干涉等方法来获取散斑,可以利用激光成像系统直写出散斑结构的光变图像,分辨率高,实现了消色差的精密光变图像设计与制作;同时,其适合于热压复制工艺,为制造消色差微光变图像提供了一种新方法。

基本信息
专利标题 :
一种消色差光变图像的制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1786823A
申请号 :
CN200510095777.1
公开(公告)日 :
2006-06-14
申请日 :
2005-11-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
周小红陈林森魏国军邵洁解剑锋沈雁
申请人 :
苏州大学;苏州苏大维格数码光学有限公司
申请人地址 :
215006江苏省苏州市沧浪区十梓街1号
代理机构 :
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 :
陶海锋
优先权 :
CN200510095777.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G02F1/01  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-08 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G03F 7/20
变更事项 : 专利权人
变更前 : 苏州大学
变更后 : 苏州大学
变更事项 : 地址
变更前 : 215006 江苏省苏州市沧浪区十梓街1号
变更后 : 215006 江苏省苏州市沧浪区十梓街1号
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
变更后 : 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
2009-08-12 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更事项 : 专利权人
变更前 : 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
变更后 : 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 江苏省苏州市工业园区机场路328号国际科技园 邮编 : 215021
变更后 : 江苏省苏州市苏州工业园区苏虹东路北钟南街478号 邮编 : 215026
2009-06-17 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更前权利人 : 苏州大学
变更后权利人 : 苏州大学
变更事项 : 地址
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 江苏省苏州市沧浪区十梓街1号 邮编 : 215006
变更后权利人 : 江苏省苏州市沧浪区十梓街1号 邮编 : 215006
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 苏州苏大维格数码光学有限公司
变更后权利人 : 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
2009-03-11 :
授权
2006-08-09 :
实质审查的生效
2006-06-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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