形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物和层间绝缘膜
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
提供一种形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物，其能够形成分辨率高，能够充分厚膜化，且透明性、耐热性、密合性、耐溶剂性等各种物性都优良的层间绝缘膜，并提供由该树脂组合物形成的层间绝缘膜。形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物特征在于包括(A)将(a)10～50重量％含酸性官能团的聚合性不饱和化合物、(b)20～60重量％含脂环状烃基而无酸性官能团的聚合性不饱和化合物以及(c)5～40重量％其它聚合性不饱和化合物聚合所得的碱可溶性共聚物；(B)聚合性不饱和化合物；(C)光聚合引发剂；以及(D)偶合剂。层间绝缘膜由该形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物形成。
基本信息
专利标题 ：
形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物和层间绝缘膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1752845A
申请号 ：
CN200510105516.3
公开（公告）日 ：
2006-03-29
申请日 ：
2005-09-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
花村政晓
申请人 ：
JSR株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
北京三幸商标专利事务所
代理人 ：
刘激扬
优先权 ：
CN200510105516.3
主分类号 ：
G03F7/027
IPC分类号 ：
G03F7/027 G02F1/13
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
法律状态
2008-05-21 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-03-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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