半穿透半反射液晶显示面板的像素结构及其制造方法
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
一种半穿透半反射液晶显示面板的像素结构,具有一反射区以及一穿透区,此半穿透半反射液晶显示面板的像素结构包括一透明基板、一薄膜晶体管、至少一反射结构、一像素电极以及一反射层,其中薄膜晶体管是配置于透明基板上,且薄膜晶体管位于反射区内。此外,反射结构是配置于透明基板上的薄膜晶体管的一侧,且位于反射区内,而像素电极是配置于薄膜晶体管及反射结构的上方,并至少位于穿透区内,且像素电极是电性连接至薄膜晶体管。另外,反射层是配置于薄膜晶体管及反射结构的上方,并位于反射区内,且反射层与像素电极相连接。
基本信息
专利标题 :
半穿透半反射液晶显示面板的像素结构及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1740862A
申请号 :
CN200510106904.3
公开(公告)日 :
2006-03-01
申请日 :
2005-09-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
简良能
申请人 :
广辉电子股份有限公司
申请人地址 :
台湾桃园县
代理机构 :
永新专利商标代理有限公司
代理人 :
李树明
优先权 :
CN200510106904.3
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333 G02F1/1368 G02F1/1335
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2008-03-19 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更事项 : 专利权人
变更前 : 广辉电子股份有限公司
变更后 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 台湾桃园县
变更后 : 中国台湾新竹
变更前 : 广辉电子股份有限公司
变更后 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 台湾桃园县
变更后 : 中国台湾新竹
2007-10-17 :
授权
2006-04-26 :
实质审查的生效
2006-03-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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