结构体及反射层的形成方法
授权
摘要

本发明提供一种结构体及反射层的形成方法,所述结构体具有良好的透明性及漫反射性并且具有还能够抑制眩光的反射层。本发明的课题可通过如下方式解决:所述结构体具有基板及固定胆甾醇型液晶相而成的反射层,在所述反射层中,基于扫描型电子显微镜的截面的观察中,源自胆甾醇型液晶相的明部所成的线及暗部所成的线具有波状结构或相对于基板的表面倾斜,并且暗部所成的线及明部所成的线的至少一部分是不连续的。

基本信息
专利标题 :
结构体及反射层的形成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111033329A
申请号 :
CN201880052506.3
公开(公告)日 :
2020-04-17
申请日 :
2018-08-13
授权号 :
CN111033329B
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
加藤峻也
申请人 :
富士胶片株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
永新专利商标代理有限公司
代理人 :
周欣
优先权 :
CN201880052506.3
主分类号 :
G02B5/30
IPC分类号 :
G02B5/30  G02B5/26  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2022-04-19 :
授权
2020-05-12 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/30
申请日 : 20180813
2020-04-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332