图案形成结构及形成方法、器件及电光学装置、电子仪器

专利权的终止

摘要

本发明通过在形成图案时使微细图案和其它图案的各自高度相同，从而提供平坦地形成含有上述图案的区域的贮格围堰结构体、图案形成方法及电光学装置、电子仪器。该发明是设有与由功能液形成的图案对应的凹部的隔壁结构体，其特征在于，包含：与第1图案对应设在隔壁(34)上的第1凹部(55)、和与第1图案连接而且与比第1图案宽度窄的第2图案相对应设在隔壁(34)上的第2凹部(56)，第2凹部(56)的底面的高度设置得比第1凹部(55)的底面的高度高。

基本信息

专利标题：

图案形成结构及形成方法、器件及电光学装置、电子仪器

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1770958A

申请号：

CN200510106829.0

公开（公告）日：

2006-05-10

申请日：

2005-09-23

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

平井利充守屋克之

申请人：

精工爱普生株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李香兰

优先权：

CN200510106829.0

主分类号：

H05K3/10

IPC分类号：

H05K3/10 H01L21/68