膜图案的形成方法、器件及其制造方法、电光学装置

专利权的终止

摘要

具有在基板(P)上形成贮格围堰(B)的工序、在由贮格围堰(B)划分的区域中配置功能液(L)的工序、使基板(P)上配置的功能液(L)干燥形成膜图案(F)的工序。在基板(P)上形成由贮格围堰的形成材料构成的薄膜(B0)，对其表面进行疏液处理后，通过图案化形成贮格围堰(B)。据此，成为只有贮格围堰(B)的上表面疏液，贮格围堰(B)的侧面未疏液的状态(对功能液(L)湿润性良好的状态)，所以在配置功能液(L)时，能顺利湿润扩展到贮格围堰间。提供能以高精度稳定形成实现微细化或细线化的膜图案的薄膜图案的形成方法。

基本信息

专利标题：

膜图案的形成方法、器件及其制造方法、电光学装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1816255A

申请号：

CN200610006988.8

公开（公告）日：

2006-08-09

申请日：

2006-01-26

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

守屋克之平井利充

申请人：

精工爱普生株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

汪惠民

优先权：

CN200610006988.8

主分类号：

H05K3/12

IPC分类号：

H05K3/12 H05K3/00 B41J2/005 H01L21/00 H01L27/32 H05B33/10