膜图案的形成方法及器件的制造方法、电光学装置及电子机器
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明的膜图案的形成方法，是在基板上配置功能液，从而形成膜图案的方法，包括：在基板上，形成与膜图案对应的围堰的围堰形成工序(S1)；以围堰为掩模，在围堰之间的底部形成凹凸的凹凸形成工序(S4)；在形成了凹凸的围堰之间，配置功能液的材料配置工序(S5)。提高能够稳定地形成细微而且高性能的膜图案的膜图案的形成方法。
基本信息
专利标题 ：
膜图案的形成方法及器件的制造方法、电光学装置及电子机器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1822748A
申请号 ：
CN200610006788.2
公开（公告）日 ：
2006-08-23
申请日 ：
2006-02-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
坂下友树守屋克之平井利充
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
汪惠民
优先权 ：
CN200610006788.2
主分类号 ：
H05K3/12
IPC分类号 ：
H05K3/12 H05K3/00 B41J2/005 B41M3/00 B41M7/00 H01L21/00 H01L27/32 H05B33/10
法律状态
2010-03-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-10-18 ：
实质审查的生效
2006-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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