有源矩阵基板及其制造方法、电光学装置、电子器件
专利申请权、专利权的转移
摘要

本发明提供一种有源矩阵基板,在具有晶体管的有源矩阵基板中,由于基板的伸缩而在制造时全面实现多个图案的对位变得困难。所以本发明的有源矩阵基板,在基材上具备多个第1布线、与多个所述第1布线交叉的多个第2布线、绝缘所述第1布线和所述第2布线的绝缘膜、与所述第2布线相邻的多个像素电极,设置与所述多个像素电极分别对应的半导体膜,所述半导体膜与所述多个第1布线和所述多个第2布线交叉的多个交叉部中的至少1个交叉部以及所述多个像素电极中的1个重叠。

基本信息
专利标题 :
有源矩阵基板及其制造方法、电光学装置、电子器件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1782841A
申请号 :
CN200510129003.6
公开(公告)日 :
2006-06-07
申请日 :
2005-11-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
川濑健夫
申请人 :
精工爱普生株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
李香兰
优先权 :
CN200510129003.6
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362  G02F1/167  H05B33/00  H01L21/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2018-11-20 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G02F 1/1368
登记生效日 : 20181101
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 精工爱普生株式会社
变更后权利人 : 伊英克公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京
变更后权利人 : 美国马萨诸塞州
2009-10-21 :
授权
2006-08-02 :
实质审查的生效
2006-06-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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